半导体行业点评：上海微公布专利 光刻机国产化持续突破
民生证券股份有限公司 研究员：方竞/张文雨 日期：2024-09-12
事件：据国家知识产权局专利公告，9 月10 日上海微电子公布一则发明专利《极紫外辐射发生装置及光刻设备》，内容涉及极紫外辐射（EUV）发生装置及光刻设备。
国产光刻技术持续突破。
EUV 光刻机采用
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